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文章出處：原創(chuàng) 編輯：admin 發(fā)表時間：2024-01-19

光催化凈化材料的去甲苯凈化性能主要是在光照條件下進行，為了判斷其凈化性能，在實驗室測試階段，需要結合凈化材料甲苯去除光催化艙來判斷。那么，凈化材料去甲苯的原理是怎么樣的呢？下面我們來看看。

實驗設備：環(huán)儀儀器凈化材料甲苯去除光催化艙

滿足標準：GB/T 42265-2022 光催化材料空氣凈化性能測試方法甲苯的去除

凈化材料甲苯去除原理：

a)半導體的電子吸收大于其帶隙的光能發(fā)生電子帶間躍遷。

b)激發(fā)電子遷移至導帶，價帶產(chǎn)生空穴，形成“電子-空穴”對。

c)遷移到半導體表面的電子-空穴對分別進行氧化還原反應。

d)荷電載流子遷移的同時發(fā)生電子與空穴的復合(湮滅)。

e)被吸附在半導體表面的有機物被夾帶空穴氧化，同時，未發(fā)生復合的電子很快與半導體表面的O2發(fā)生反應生成超氧陰離子·O2。

f)超氧陰離子·02與空氣中水反應生成H2O2，產(chǎn)生對光催化氧化起決定作用的羥基自由基·OH，進而與有機污染物反應并使之礦化。

光催化反應過程如下:

有機物+·OH→CO2+H2O+其他產(chǎn)物

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